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高频薄膜铌酸锂调制器

使用铌酸锂单晶薄膜开发出高频调制器件,与传统调制器相比,体积大 幅缩小,长度缩短为传统器件的1/3。该产品利用中阶层和缓冲层两个材料体系共同作用,抑制薄膜结构的DC漂移,线性度高,不用搭配TEC来稳定温度效应。性能方面,根据封装工艺不同,实现了25G,40G和60G带宽,可用于用于800G相干光通信。有较低的RFVπ和插入损耗,在调制效率、偏正保持等指标都达到或超过传统体材料铌酸锂器件。

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产品介绍

使用铌酸锂单晶薄膜开发出高频调制器件,与传统调制器相比,体积大

幅缩小,长度缩短为传统器件的1/3。该产品利用中阶层和缓冲层两个材料体系共同作用,抑制薄膜结构的DC漂移,线性度高,不用搭配TEC来稳定温度效应。性能方面,根据封装工艺不同,实现了25G,40G和60G带宽,可用于用于800G相干光通信。有较低的RFVπ和插入损耗,在调制效率、偏正保持等指标都达到或超过传统体材料铌酸锂器件。


参数规格:

技术指标

参数

单位

插入损耗

<3.5

dB

光反射损耗

40

dB

光学开关消光比

25

dB

工作带宽

>40

GHz

工作波长

1310/1550

nm

半波电压*调制长度

<3

Vπ*cm